ITO靶材有望受益于HJT电池爆发

2022年01月20日 9:54 15648次浏览 来源:   分类: 其他稀有金属

导读: HJT 电池工艺步骤简化,TCO 薄膜沉积分 PVD/RPD 两种工艺。HJT电池工艺包括清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、TCO 薄膜沉积以及丝网印刷四步,其中TCO薄膜沉积分 PVD/RPD 两种工艺。

HJT 电池工艺步骤简化,TCO 薄膜沉积分 PVD/RPD 两种工艺。HJT电池工艺包括清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、TCO 薄膜沉积以及丝网印刷四步,其中TCO薄膜沉积分 PVD/RPD 两种工艺。

PVD 磁控溅射工艺用被电磁场加速的高能粒子(Ar+)轰击靶材,靶材表面原子获得能量逸出,沉积在衬底表面形成氧化物薄膜。

RPD 工艺利用等离子体枪产生氧的等离子体,让其进入生长腔后,在磁场作用下轰击靶材,靶材温度升高后生化形成蒸汽实现薄膜沉积。

目前主流技术路线是用 PVD工艺,相较于PVD,RPD的效率和质量更高,但是受制于日本住友公司对设备和靶材的垄断,成本较高。

靶材是 TCO 薄膜沉积的关键,ITO 靶材为最佳选择。不论是 PVD 工艺还是RPD工艺,靶材都是必不可少的材料。目前市场化的靶材有 AZO 和 ITO 等。AZO材料价格较为经济,但其导电性较 ITO 相差较大,通过厚镀膜来弥补导电性将极度降低光的透过率,将 大幅降低电池特性。ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生 产工艺加工成型,再高温气氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体,通过 调整氧化铟和氧化锡粉末的比例,可以提高 HJT 电池的转换效率。

ITO 靶材以进口为主,国产替代正当时。全球 ITO 靶材市场主要供应商有日本日矿、 三井矿业、康宁、优美科等,其垄断了全球 80%的中高端市场份额和 90%的全球晶圆制 造靶材市场份额。我国ITO靶材大量依赖进口,国产ITO靶材主要集中在中低端领域, 根据华经情报网数据,2020 年市场份额仅在 30%左右。经过多年发展,目前我国形成 了一批具备 ITO 靶材量产能力的企业,市场也开始逐渐导入国产靶材,靶材进口替代进 程有望不断推进。

责任编辑:张雪卉

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