韩国开发新型碲化物纳米带
2018年08月15日 9:4 5699次浏览 来源： 中国有色金属报 分类： 新材料前沿 作者： 罗晔
韩国研究财团近期报道称，蔚山科学技术院权顺容（音译）教授和郭进成（音译）教授研究团队利用熔融金属合金液滴制作出高品质的碲化物纳米带，这一发现今后有望提高石墨烯封装膜的性能。
自石墨烯这一梦之新材料发现以来，人们也开始对硫属化合物进行了广泛的研究，这是因为此类化合物具有与石墨烯类似的双重层状结构，其中，碲化物作为拓扑绝缘体膜，在纳米材料的内部连接元件、相变存储器等各种未来半导体和纳米电子元件领域的应用前景广阔。
不过，碲原子的反应活性低，稳定性差，截至目前，依旧很难制备出高品位过渡金属的碲化物，而且碲化物容易受到大气中水分的影响，为此，迫切需要开发可以长时间保持优秀性能的封装膜。
研究小组开发的新工艺是在含有大量碲的金属合金液滴中生成碲化物核，并诱导其生长。在500℃以下的低温环境下，采用1层碲化物纳米带在短时间内制作出大面积的圆片规模，并可以对碲化物的化学成分进行调节。
而且研究团队也开发了可以控制石墨烯渗水的技术。借助化学气相沉积法将生长的石墨烯的水分通透路径进行可视化储量，发现石墨烯的褶皱部位可以使得水分通过，随后借助非晶石墨阻挡水分渗透，由此提高了封装膜的性能。
权顺容教授表示，该研究引入了全新的生长概念，实现了单层层状结构材料生长和控制，有望应用于单层物质和双层物质融合的新概念纳米元件。郭进成表示，为了实现石墨烯封装膜的商用化，计划对水分渗透路径和控制石墨烯褶皱进行深入研究。
此项研究得到了韩国科学技术情报通信部和研究财团纳米材料技术开发项目，以及基础研究项目的大力支持，相关研究成果刊登于材料领域国际权威杂志《Advanced?Materials》（先进材料）。
责任编辑：陈岩
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