国家重大科研装备研制项目“大型高精度衍射光栅刻划系统的研制”通过验收
2016年11月14日 9:31 2898次浏览 来源： 中科院 分类： 新材料前沿
11月11日，国家重大科研装备研制项目“大型高精度衍射光栅刻划系统的研制”验收会在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开。
验收专家组听取了《大型高精度衍射光栅刻划系统研制项目工作报告》、《大型高精度衍射光栅刻划系统研制项目管理及应用情况报告》、《大型高精度衍射光栅刻划系统研制项目验收测试报告》和《大型高精度衍射光栅刻划系统研制项目财务审计报告》介绍，并现场考察了仪器设备运行情况，审查了提供的相关材料，经质询和讨论，一致同意项目通过验收。
中科院长春光机所是中国光栅的发源地。早在1958年，就研制出了国内第一台光栅刻划机和第一块光栅，我国第一颗原子弹爆炸试验的光谱设备就曾经使用过这里研制的光栅。随着科学技术的不断发展，大面积高精度光栅又成为了制约我国相关领域技术发展的“短板”。因此，2008年，在中科院和财政部的策划协调下，长春光机所再次承担起了研制“大型高精度衍射光栅刻划系统”的工作。
由于该项目瞄准的是光栅刻划技术的世界领先水平，其指标要求高、关键技术难、学科交叉多、任务工作量大，项目推进遇到了前所未有的困难。但是，长春光机所及研制项目组从实际出发，不怕失败、大胆创新、巧思妙想、刻苦钻研，秉承“咬定青山不放松，面对险阻不妥协”的科学态度，承受重压、追求极致、夜以继日、攻坚克难，历时8年时间，攻克18项关键技术，取得9项创新性成果，终于完成了项目任务，并成功研制出面积达400mm×500mm的世界上面积最大的中阶梯光栅。
此项国家重大科研装备研制项目的完成从3个方面证明了我国的科技实力：一是我国的精密机械加工技术达到了国际前沿水平；二是我国大面积中阶梯光栅制造技术达到了国际前沿水平；三是我国相关高科技领域的战略部署由于缺乏大面积高精度光栅而受阻的时代已经结束。
责任编辑：于璐
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