法柯特科技立足金属靶材市场
2016年04月30日 17:18 5834次浏览 来源： 中国有色网 分类： 地质矿业
近年来，随着电镀和化学镀等传统表面改性技术的局限性日益突出，以物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）为主要工艺方法的真空镀膜技术取得了突飞猛进的发展，其中PVD制备过程所需要的溅射靶材市场需求量日趋旺盛。据统计，全球范围内靶材的市场需求量每年以20%的速度增长，中国作为全球制造业大国，其靶材的市场需求量更是每年以超过30%的速度增长。若不计贵金属靶材，保守估计目前每年各领域所需要的靶材总量价值约100亿元人民币。
法柯特科技（江苏）有限公司从事专业的靶材研发、制造商。也是同行业技术领先者之一，拥有先进的生产设备与生产工艺，靶材具有纯度更纯、密度更高、氧/氮/碳/硫含量可控等核心技术优势。主要产品有：硅旋转靶、硅铝旋转靶、氧化铌旋转靶、各类金属旋转靶及大面积平面靶， 产品广泛用于平板显示器、触摸屏、汽车玻璃镀膜、建筑节能玻璃镀膜、太阳能光伏、电子半导体等行业。
法柯特深入掌握先进的镀膜技术和溅射技术。PVD是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。是由汽化形成所需的膜材料（在溅射靶）凝结到基板（玻璃板，薄膜太阳能电池等）。该涂层技术包括纯粹的物理过程，冷凝或等离子溅射轰击高温真空蒸发，而不涉及化学反应在表面化学气相沉积。工作时，溅射沉积，辉光等离子体放电（局部目标周围的磁场）轰击材料溅射作为基板上的随后的沉积相。在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
责任编辑：陈鑫
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