东进世美肯CMP工程用钨研磨剂 正式供应台半导体厂

2019年05月17日 9:19 3446次浏览 来源:   分类:

导读:   东进世美肯正式将钨研磨剂产品供应给台湾的半导体晶圆制造业领军企业之一的厂商,包括其在中国与台湾的所有8英寸半导体厂。

东进世美肯正式将钨研磨剂产品供应给台湾的半导体晶圆制造业领军企业之一的厂商,包括其在中国与台湾的所有8英寸半导体厂。

2018年10月,东进世美肯,开始正式供应半导体CMP工程用钨研磨剂予位于台湾的半导体晶圆制造业领军企业之一,并于近期把该产品的供应扩大到该公司在中国与台湾的所有8英寸半导体厂。

东进世美肯的CMP工程用钨研磨剂,可以适用于最尖端Logic、DRAM以及Flash memory等制造工程,东进世美肯并在2018年7月,在台湾与Cabot Microelectronics的防侵权(台湾专利)等诉讼中胜诉,明确了东进世美肯在钨研磨剂领域的领先地位。

东进世美肯的钨研磨剂供应,覆盖了中国、韩国、新加坡、马来西亚等国家的半导体厂商。本次成为全球晶圆制造业领军企业之一的供应商,极有可能会帮助东进世美肯迅速扩大在全世界范围内的市场占有率。

东进世美肯,作为韩国最大的半导体&平板显示器用材料供应商,在中国、韩国和台湾运营着14家工厂,励志成为各地区顾客的重要发展伙伴。

(工商时报)

责任编辑:周大伟

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